評価装置

CVD装置

概要と仕様

CVD装置CVD(Chemical Vapor Deposition)装置では、気相中で化学反応を利用して薄膜を形成する技術であり、利用される化学反応には、熱分解、酸化、還元、加水分解などがあり、活性化エネルギーとしては、熱の他、プラズマ、光が利用される。反応温度は、形成される薄膜の使用環境条件により、常温から1000℃を越える場合もある。本装置を用いて炭素材料の開発を行っている。